PVD SR300 磁控濺射設備是一款小型臺面式濺射系統，具有高真空、單原子層沉積精度的特點。
設備配備4 個2 英寸高真空陰極。滿足簡單的材料研究需求。
| 本底真空：極限真空優于5×10-7mbar | 樣品尺寸：4英寸以下晶圓樣品 | 加熱模塊：SiC加熱，室溫-850℃（可選溫差樣品架，熱端400℃，冷端100℃） |
| 濺射靶安裝口：4個（2 inch） | 濺射方式：共聚焦濺射 | 靶槍電源：直流/射頻/脈沖直流/HiPIMS電源可選 |
| 選配模塊：QCM | 進取樣方式：上開門結構進行樣品取放 |
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