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超高真空解理鍍膜系統

真空解理鍍膜系統可實現高功率激光器巴條的超高真空原位解理(Cleaving)、鈍化(Passivation)和光學鍍膜(Optical Coating)。在超高真空環境下進行激光二極管巴條的原位解理,可獲得無缺陷、無污染的單晶解理面。解理后的巴條經過圓形傳遞腔室(Cluster Tool)傳輸到鍍膜腔室進行鈍化膜或光學膜蒸鍍。全流程在優于2*E-10 torr的超高真空環境下進行,實現高質量器件生產。

全自動化機械臂組件安裝于圓形傳遞腔室,具備360°旋轉和伸縮功能,可完成托盤在各個作業腔室的自動抓取和放置。機械臂配置激光傳感器以及視覺定位系統,以檢測機械臂在系統內運動實時狀態,并可進行零點位置校正。

超高真空解理系統可實現巴條的手動或批量自動化解理和堆疊,提高生產效率。

鍍膜腔室基于費勉標準MBE系統設計,根據鈍化層蒸鍍工藝需求可配置多種類型蒸發源包括電子束源(E-beam)、熱蒸發源(K-cell)、等離子源(Plasma)以及裂解源(Cracker)。通過使用BFM、QCM、RGA、RHEED等,可進行膜層實時原位表征。腔室配置多維運動樣品停放臺,可配合傳樣及鍍膜過程中所需運動。各運動軸搭配光電信號檢測系統,保證運動重復性和安全性。鍍膜過程可全自動化控制,包括生長工藝Recipe編寫,自動生長控制以及不間斷數據記錄三大功能。各類溫度以及運動等控制都可在PC端輕松操控,數據曲線讀取便捷。

規格說明
快速進出樣腔
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● 可裝載10層樣品托盤,單個托盤多工位;

● 紅外烘烤燈泡可進行快速樣品除氣;

● 遠程等離子清洗模塊,載樣托盤和樣品架等結構件清潔,可有效提高清潔度和腔室真空度;

● 進樣和出樣腔室獨立操作,提高生產效率;


圓形傳遞腔室


● 側面多法蘭口,可對接多個子系統,且子系統獨立作業互不影響;

● 機械臂具備360°旋轉和伸縮功能;

● 配合傳感器等控制反饋實現全自動化傳樣;


真空解理腔

● 實現巴條解理和堆疊;

● 單次可批量處理多工位樣品;


鈍化鍍膜腔
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● 多個底部法蘭口,可兼容熱爐源、電子束蒸發源、射頻等離子源、裂解源等;

● 襯底加熱器溫度650±0.5℃;

● 實時束流監測,QCM晶振或BFM束流規;

● 實時膜層監控RHEED;

● 多軸樣品停放臺實現樣品原位翻轉或配置獨立翻轉室;

● 自動生長系統,不間斷數據記錄;



標簽: 超高真空MBE
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