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漫反射紅外反應(yīng)池

原位高溫紅外反應(yīng)池,適用于高溫條件下多相催化、氣固催化、光催化體系紅外在線測(cè)試的原位裝置。該裝置主要針對(duì)于具有高表面積的粉末樣品。最高操作溫度400℃。

規(guī)格說明
● 該原原位反應(yīng)池適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、光催化體系紅外在線測(cè)試;● 樣品臺(tái)加熱溫度范圍:RT-400℃,溫度控制精度:±1℃;
● 采用K型熱偶作為溫度傳感器;● 裝置主體采用316L不銹鋼制作,具備一定的強(qiáng)度和耐腐蝕性;
● 頂部法蘭為DN35CF;● 池子死體積小,配2個(gè)紅外窗口;
● 裝置可進(jìn)行充氣處理,并可承受一定壓力,壓力調(diào)節(jié)范圍:1-10bar

                                                                                                                                                                                                                                                                                               
標(biāo)簽: 超高真空MBE
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